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西安电子科技大学郑雪峰教授、洪悦华博士：高温下NiOx/Ga2O3界面特性与传输导电机制的新发现（图）
郑雪峰 洪悦华 NiOx Ga2O3 界面特性 传输导电 Applied Surface Science
2025/2/5
西安电子科技大学郝跃院士团队郑雪峰教授、马晓华教授等报道了一种新型的原位变温X射线光电子能谱（XPS）表征方法，并基于此技术提出了能带弯曲与温度变化的理论模型。相关研究成果以“Demonstration on Dynamic Evolution of Energy Band Offsets Based in NiOx/Ga2O3 P-N Heterojunction Interface Under...
随着水处理行业的不断发展，对于传统的高级氧化技术（AOPs）也提出了更多新的要求，也开发了很多新的高性能催化剂用于高级氧化领域。为了探究NiOx在超声强化的条件下对单过硫酸盐（PMS）的催化性能，同时探究NiOx/PMS/US高级氧化体系对染料废水降解的优势，采用溶胶-凝胶法制备NiOx催化剂，酸性橙7（AO7）作为降解底物。探究发现：相比于NiOx/H2O2/US、NiOx/过硫酸盐（PDS）/...
基于磁控溅射制备纳米微晶NiOx薄膜的方法
无机非金属材料 磁控溅射 纳米微晶态
2009/10/16
使用一种配套于磁控溅射设备的基片液氮冷却装置制备了小颗粒度纳米微晶NiOx电致变色薄膜. 当溅射参数完全相同时, 借助于对基片的冷却可有效控制并降低NiOx薄膜的晶粒尺度. 冷却基片所制备的NiOx薄膜的电致变色性能明显优于室温时制备的薄膜, 且该薄膜的O/Ni比率也明显高于室温时制备的NiOx薄膜的O/Ni比率.
磁控溅射参数对NiOx薄膜光学常数的影响
光学常数 NiOx薄膜 溅射参数
2009/8/14
采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜,并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响.NiOx薄膜的光学常量随着O2/Ar流量比的增大而减小；热退火后,折射率增大而消光系数下降了50%；溅射功率越大折射率也越大,而工作气压越大折射率反而越小.这些变化分别与薄膜中存在间隙O和Ni空位、NiOx分解以及NiOx薄膜的致密度有关.