搜索结果: 1-5 共查到“等离子体物理学 silicon”相关记录5条 . 查询时间(0.17 秒)
Simultaneous aluminum, silicon, and sodium coordination changes in 6 GPa sodium aluminosilicate glasses
NMR aluminosilicate glass high pressure coordination aluminum silicon sodium
2014/4/8
We present the first direct observation of high-coordinated Si and Al occurring together in a series
of high-pressure sodium aluminosilicate glasses, quenched from melts at 6 GPa. Using
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Si MAS...
期刊信息
篇名
Surface Wettabiliy of Nitrogen Plasma-Implanted Silicon
语种
英文
撰写或编译
作者
G. J. Wan,R. K. Y. Fu,P. Yang,J. P. Y. Ho,X. Xie,N. Huang,and P. K.Chu*
第一作者单位
刊物名称
Nuclear Instruments and Methods in Ph...
期刊信息
篇名
Pulsed Plasma Deposition c-BN Thin Films on Silicon Substrate
语种
英文
撰写或编译
撰写
作者
闫鹏勋,杨思泽
第一作者单位
中国科学院物理研究所
刊物名称
Phys. Stat. Sol.
页面
1994.145.K29
出版日期
1994年
4月
日
文章标识(ISSN)
相关项目
高能量密度等离子体法制备立方氮化...
Nitrogen plasma source ion implantation (PSII) for improvement of blood-compatibility of silicon
2007/7/28
期刊信息
篇名
Nitrogen plasma source ion implantation (PSII) for improvement of blood-compatibility of silicon
语种
英文
撰写或编译
作者
P.Yang,G.J.Wan,X.Xie,Y.X.Leng,H.F.Zhou,P.K.Chu and N.Huang*
第一作者单位
刊物名称
Key Engi...
期刊信息
篇名
Pulsed high energy density plasma processing silicon surface
语种
英文
撰写或编译
撰写
作者
B.Liu,C.Z.Liu,D.J.Cheng,R.He,S.Z.Yang
第一作者单位
中国科学院物理研究所
刊物名称
Thin Solid Films
页面
2001，390，149
出版日期
2001年
月
日
文章标识...